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干貨:有關MEMS的最詳細介紹
2023-07-07
文章詳情

雖然大部分人對于MEMS(Microelectromechanical systems, 微機電系統/微機械/微系統)還是感到很陌生,但是其實MEMS在我們生產,甚至生活中早已無處不在了,智能手機,健身手環(huán)、打印機、汽車、無人機以及VR/AR頭戴式設備,部分早期和幾乎所有近期電子產品都應用了MEMS器件。

MEMS是一門綜合學科,學科交叉現象及其明顯,主要涉及微加工技術,機械學/固體聲波理論,熱流理論,電子學,生物學等等。MEMS器件的特征長度從1毫米到1微米,相比之下頭發(fā)的直徑大約是50微米。MEMS傳感器主要優(yōu)點是體積小、重量輕、功耗低、可靠性高、靈敏度高、易于集成等,是微型傳感器的主力軍,正在逐漸取代傳統機械傳感器,在各個領域幾乎都有研究,不論是消費電子產品、汽車工業(yè)、甚至航空航天、機械、化工及醫(yī)藥等各領域。常見產品有壓力傳感器,加速度計,陀螺,靜電致動光投影顯示器,DNA擴增微系統,催化傳感器。

MEMS的快速發(fā)展是基于MEMS之前已經相當成熟的微電子技術、集成電路技術及其加工工藝。 MEMS往往會采用常見的機械零件和工具所對應微觀模擬元件,例如它們可能包含通道、孔、懸臂、膜、腔以及其它結構。然而,MEMS器件加工技術并非機械式。相反,它們采用類似于集成電路批處理式的微制造技術。批量制造能顯著降低大規(guī)模生產的成本。若單個MEMS傳感器芯片面積為5 mm x 5 mm,則一個8英寸(直徑20厘米)硅片(wafer)可切割出約1000個MEMS傳感器芯片(圖1),分攤到每個芯片的成本則可大幅度降低。因此MEMS商業(yè)化的工程除了提高產品本身性能、可靠性外,還有很多工作集中于擴大加工硅片半徑(切割出更多芯片),減少工藝步驟總數,以及盡可能地縮傳感器大小。

圖1. 8英寸硅片上的MEMS芯片(5mm X 5mm)示意圖

圖2. 硅片,其上的重復單元可稱為芯片(chip 或die)

MEMS需要專門的電子電路IC進行采樣或驅動,一般分別制造好MEMS和IC粘在同一個封裝內可以簡化工藝,如圖3。不過具有集成可能性是MEMS技術的另一個優(yōu)點。正如之前提到的,MEMS和ASIC (專用集成電路)采用相似的工藝,因此具有極大地潛力將二者集成,MEMS結構可以更容易地與微電子集成。然而,集成二者難度還是非常大,主要考慮因素是如何在制造MEMS保證IC部分的完整性。例如,部分MEMS器件需要高溫工藝,而高溫工藝將會破壞IC的電學特性,甚至熔化集成電路中低熔點材料。MEMS常用的壓電材料氮化鋁由于其低溫沉積技術,因為成為一種廣泛使用post-CMOS compatible(后CMOS兼容)材料。雖然難度很大,但正在逐步實現。與此同時,許多制造商已經采用了混合方法來創(chuàng)造成功商用并具備成本效益的MEMS 產品。一個成功的例子是ADXL203,圖4。ADXL203是完整的高精度、低功耗、單軸/雙軸加速度計,提供經過信號調理的電壓輸出,所有功能均集成于一個單芯片IC中。這些器件的滿量程加速度測量范圍為±1.7 g,既可以測量動態(tài)加速度(例如振動),也可以測量靜態(tài)加速度(例如重力)。(ADXL203 精密±1.7g 雙軸iMEMS? 加速度計數據手冊及應用電路,http://www.analog.com/media/en/technical-documentation/data-sheets/ADXL103_203.pdf)

圖3. MEMS與IC在不同的硅片上制造好了再粘合在同一個封裝內(Andreas C. Fischer ; Fredrik Forsberg ; Martin Lapisa ; Simon J. Bleiker ; G?ran Stemme ; Niclas Roxhed ; Frank Niklaus,Integrating MEMS andICs,Microsystems & Nanoengineering, 2015, Vol.1. Integrating MEMS and ICs : Microsystems & Nanoengineering)

圖4. ADXL203(單片集成了MEMS與IC)

NEMS(納機電系統)

NEMS(Nanoelectromechanical systems, 納機電系統)與MEMS類似,主要區(qū)別在于NEMS尺度/重量更小,諧振頻率高,可以達到極高測量精度(小尺寸效應),比MEMS更高的表面體積比可以提高表面?zhèn)鞲衅鞯拿舾谐潭?,(表面效應),且具有利用量子效應探索新型測量手段的潛力。

首個NEMS器件由IBM在2000年展示, 如圖5所示。 器件為一個 32X32的二維懸臂梁(2D cantilever array)。該器件采用表面微加工技術加工而成(MEMS中采用應用較多的有體加工技術,當然MEMS也采用了不少表面微加工技術,關于微加工技術將會在之后的專題進行介紹)。該器件設計用來進行超高密度,快速數據存儲,基于熱機械讀寫技術(thermomechanical writing and readout),高聚物薄膜作為存儲介質。該數據存儲技術來源于AFM(原子力顯微鏡)技術,相比磁存儲技術,基于AFM的存儲技術具有更大潛力。

快速熱機械寫入技術(Fast thermomechanical writing)基于以下概念(圖6),‘寫入’時通過加熱的針尖局部軟化/融化polymer,同時施加微小壓力,形成納米級別的刻痕,用來代表一個bit。加熱時通過一個位于針尖下方的阻性平臺實現。對于‘讀’,施加一個固定小電流,溫度將會被加熱平臺和存儲介質的距離調制,然后通過溫度變化讀取bit。 而溫度變化可通過熱阻效應(溫度變化導致材料電阻變化)或者壓阻效應(材料收到壓力導致形變,從而導致導致材料電阻變化)讀取。

圖5. IBM 二維懸臂梁NEMS掃描電鏡圖(SEM)其針尖小于20nm

圖6.快速熱機械寫入技術示意圖

通信/移動設備

圖7. 智能手機簡化示意圖(How MEMS Enable Smartphone Features,http://smartphoneworld.me/mobile-commerce-2-0-where-payments-location-and-advertising-converge)

在智能手機中,iPhone 5采用了4個 MEMS傳感器,三星Galaxy S4手機采用了八個MEMS傳感器。iPhone 6 Plus使用了六軸陀螺儀&加速度計(InvenSense MPU-6700)、三軸電子羅盤(AKM AK8963C)、三軸加速度計(Bosch Sensortec BMA280),磁力計,大氣壓力計(Bosch Sensortec BM[280)、指紋傳感器(Authen Tec的TMDR92)、距離傳感器,環(huán)境光傳感器(來自AMS的TSL2581 )和MEMS麥克風。iphone 6s與之類似,稍微多一些MEMS器件,例如采用了4個MEMS麥克風。預計將來高端智能手機將采用數十個MEMS器件以實現多模通信、智能識別、導航/定位等功能。 MEMS硬件也將成為LTE技術亮點部分,將利用MEMS天線開關和數字調諧電容器實現多頻帶技術。

以智能手機為主的移動設備中,應用了大量傳感器以增加其智能性,提高用戶體驗。這些傳感器并非手機等移動/通信設備獨有,在本文以及后續(xù)文章其他地方所介紹的加速度、化學、人體感官傳感器等可以了解相關信息,在此不贅敘。此處主要介紹通信中較為特別的MEMS器件,主要為與射頻相關MEMS器件。

通信系統中,大量不同頻率的頻帶被使用以完成通訊功能,而這些頻帶的使用離不開頻率的產生。聲表面波器件,作為一種片外(off-chip)器件,與IC集成難度較大。表面聲波(SAW)濾波器曾是手機天線雙工器的中流砥柱。2005年,安捷倫科技推出基于MEMS體聲波(BAW)諧振器的頻率器件(濾波器),該技術能夠節(jié)省四分之三的空間。BAW器件不同于其他MEMS的地方在于BAW沒有運動部件,主要通過體積膨脹與收縮實現其功能。(另外一個非位移試MEMS典型例子是依靠材料屬性變化的MEMS器件,例如基于相變材料的開關,加入不同電壓可以使材料發(fā)生相變,分別為低阻和高阻狀態(tài),詳見后續(xù)開關專題)。

在此值得一提的事,安華高Avago(前安捷倫半導體事業(yè)部)賣的如火如荼的薄膜腔聲諧振器(FBAR)。也是前段時間天津大學在美國被抓的zhang hao研究的東西。得益于AlN氮化鋁壓電材料的沉積技術的巨大進步,AlN FBAR已經被運用在iphone上作為重要濾波器組件。下圖為FBAR和為SMR (Solidly Mounted Resonator)。

圖8. FBAR示意圖,壓電薄膜懸空在腔體至上

圖9. SMR示意圖(非懸空結構,采用Bragg reflector布拉格反射層) (SAW/FBAR設備的工作原理及使用范例)

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